▶ 나노 수준의 표면구조를 전기화학적으로 형성시켜 생체적합성을 극대화한 임플란트 제조 기술로

임플란트 식립 후 열악한 골질에서도 치유가 빠른 골 유합 특성을 가짐

▶ 나노 수준까지 표면구조를 제어하여 약 100~200nm 크기의 딤플과 10nm 크기의 나노 가공을

표면에 형성하여 입체적 기재와 대면적 기재에도 적용 가능한 전기화학적 애칭 기술로 견고한

고순도 나노 표면을 제공함

▶ 산 사용을 배제한 알코올계 전해질을 사용하는 안전하고 친환경적인 공정과, 여러 개의 샘플을

한번에 표면 처리하여 대량 생산이 가능하여, 치과 및 정형외과 임플란트의 표면 처리 또는

의료용 소재 및 전기·전자부품 등에 활용 가능함